UV能量計(jì)在光刻技術(shù)中的應(yīng)用

光刻技術(shù)是將掩模版上的圖形，轉(zhuǎn)移到涂有光致抗蝕劑（或者稱(chēng)光刻膠）的硅片上，通過(guò)一系列的生產(chǎn)步驟將硅片表面薄膜的特定部分除去的一種圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)。主要用于制造半導(dǎo)體元件，印刷板，印刷電路板，液晶顯示面板，等離子顯示面板等。

根據(jù)曝光方式的不同，光刻機(jī)也主要分為接觸式，接近式以及投影式3種。

接觸式光刻機(jī)是最簡(jiǎn)單的光刻機(jī)，其優(yōu)點(diǎn)是設(shè)備簡(jiǎn)單，分辨率高，沒(méi)有衍射效應(yīng)。而缺點(diǎn)是掩模版與涂有光刻膠的晶圓片直接接觸，每次接觸都會(huì)在晶圓片和掩模版上產(chǎn)生缺陷，降低掩模版的使用壽命，成品率比較低，不適合大規(guī)模的生產(chǎn)。

接近式的光刻機(jī)掩模版與光刻膠間隔10~50μm，所以缺陷大大減少，優(yōu)點(diǎn)是避免晶圓片與掩模直接接觸，缺陷少，缺點(diǎn)是分辨率下降，存在衍射的效應(yīng)。

如今硅片光學(xué)曝光最主要的方法是投影式曝光，這種方法有接觸式的分辨率，但不產(chǎn)生缺陷。

光刻設(shè)備主要采用的是汞燈作為曝光光源， 光源的波長(zhǎng)對(duì)提高分辨率非常重要,利用UV能量計(jì)對(duì)固化光源的強(qiáng)度和能量進(jìn)行檢測(cè)，防止紫外線(xiàn)強(qiáng)度過(guò)高對(duì)分辨率產(chǎn)生重大影響。這也就是光刻曝光技術(shù)需要UV能量計(jì)參與的原因。

林上的UV能量計(jì)LS120和LS130都是高壓汞燈固化專(zhuān)用的檢測(cè)儀器。

UV能量計(jì)LS120可以檢測(cè)紫外線(xiàn)燈的能量，功率和溫度，還具有功率曲線(xiàn)和溫度曲線(xiàn)圖顯示。

而UV能量計(jì)LS130則可以檢測(cè)紫外線(xiàn)燈的能量和功率，具有功率曲線(xiàn)，還可以統(tǒng)計(jì)功率最大值，采用耐高溫設(shè)計(jì)，可長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行在100攝氏度的環(huán)境中。