應(yīng)用較多的兩種真空鍍膜方法

來(lái)源:林上科技   發(fā)布時(shí)間:2012/05/17 10:47  瀏覽:5061
真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,主要有蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜兩種。真空鍍膜廠家一般都用真空鍍膜在線測(cè)試儀監(jiān)測(cè)鍍膜厚度及生產(chǎn)品質(zhì)。

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,主要有蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜兩種。真空鍍膜廠家一般都用真空鍍膜在線測(cè)試儀監(jiān)測(cè)鍍膜厚度及生產(chǎn)品質(zhì)。

真空鍍膜機(jī)

一、對(duì)于蒸發(fā)鍍膜
一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái),并且沉降在基片表面,通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。
厚度均勻性主要取決于:
1、基片材料與靶材的晶格匹配程度
2、基片表面溫度
3、蒸發(fā)功率,速率
4、真空度
5、鍍膜時(shí)間,厚度大小。
組分均勻性:蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對(duì)于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。
晶向均勻性:
1.晶格匹配度
2.基片溫度
3.蒸發(fā)速率
二.濺射類鍍膜
可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái),并且最終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過(guò)程,最終形成薄膜。
濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。
濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差(因?yàn)槭敲}沖濺射),晶向(外沿)生長(zhǎng)的控制也比較一般?

標(biāo)簽: 真空鍍膜
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